નીચેનામાંથી કઈ ઇલેક્ટ્રોનિક રચના બીજી અને ત્ર | vedclass

Name: Exam Paper Generator | JEE NEET Paper Generator | Vedclass
Brand: Vedclass
Rating: 5 (35 reviews)

Question

(C) બીજી અને ત્રીજી આયનીકરણ ઉર્જા વચ્ચેનો તફાવત ત્યારે સૌથી વધુ હોય છે જ્યારે ત્રીજો ઇલેક્ટ્રોન દૂર કરવા માટે સ્થાયી પૂર્ણ ભરાયેલી કક્ષા કે પેટા-કક્ષા

Vedclass · Accepted Answer

$1s^2 \, 2s^2 \, 2p^6 \, 3s^2$

Vedclass · Answer

(C) બીજી અને ત્રીજી આયનીકરણ ઉર્જા વચ્ચેનો તફાવત ત્યારે સૌથી વધુ હોય છે જ્યારે ત્રીજો ઇલેક્ટ્રોન દૂર કરવા માટે સ્થાયી પૂર્ણ ભરાયેલી કક્ષા કે પેટા-કક્ષામાંથી ઇલેક્ટ્રોન દૂર કરવો પડે.$2$ ઇલેક્ટ્રોન દૂર કર્યા પછીની ઇલેક્ટ્રોનિક રચનાઓ તપાસતા:$C$ વિકલ્પમાં,તત્વ $Mg$ ($12$ ઇલેક્ટ્રોન) છે. $2$ ઇલેક્ટ્રોન દૂર કર્યા પછી તે નિષ્ક્રિય વાયુ જેવી સ્થાયી રચના $(1s^2 \, 2s^2 \, 2p^6)$ પ્રાપ્ત કરે છે. આ સ્થાયી અષ્ટકમાંથી $3^{rd}$ ઇલેક્ટ્રોન દૂર કરવા માટે ઘણી વધારે ઉર્જાની જરૂર પડે છે.

નીચેનામાંથી કઈ ઇલેક્ટ્રોનિક રચના બીજી અને ત્રીજી આયનીકરણ ઉર્જા વચ્ચે સૌથી મોટો તફાવત (jump) દર્શાવે છે?

Similar Questions

$Li, Be,$ અને $B$ ની બીજી આયનીકરણ એન્થાલ્પીનો ક્રમ નીચે મુજબ છે:

નીચેનામાંથી કયા સંક્રમણમાં મહત્તમ ઉર્જાની જરૂર પડે છે?

આયનીકરણ એન્થાલ્પીનું મૂલ્ય કયા પરિબળો પર આધાર રાખે છે?

$B$,$C$ અને $N$ માટે પ્રથમ આયનીકરણ ઉર્જાનો સાચો ક્રમ કયો છે?

$V, Cr, Mn$ અને $Fe$ ના પરમાણુક્રમાંક અનુક્રમે $23, 24, 25$ અને $26$ છે. આ પૈકી કયા તત્વની દ્વિતીય આયનીકરણ એન્થાલ્પી સૌથી વધુ હશે?

Vedclass Test Series

Exam Paper Generator

Online Exam Module